Óxido de antimonio

Óxido de antimonio (Sb₂O₃/Sb₂O₅) CAS No. 1309-64-4 (trióxido de antimonio)/1314-60-9 (pentóxido de antimonio). Taixing se basa en su "proceso integrado de purificación al vacío por oxidación de plasma" desarrollado de forma independiente. A través del control de pureza a nivel atómico, el diseño de morfología a nivel submicrónico y la ingeniería de energía superficial, hemos elevado el óxido de antimonio de un químico básico a un material funcional de grado de ingeniería que puede regular con precisión las reacciones químicas de combustión y garantizar la máxima redundancia de seguridad.

Fortalezas centrales

1. Calidad ultrapura y control de rendimiento multidimensional

-Trióxido de antimonio (Sb₂O₃): contenido principal ≥ 99,99%, impureza clave As₂O₃ ≤ 0,01% PbO≤0,02%, muy superior a los estándares de la industria, lo que elimina el riesgo de migración de sustancias nocivas; Blancura ≥ 99, el tamaño promedio de partícula se puede personalizar a 0,3-5 μ m (opcional a nivel nanométrico de 50-200 nm), proporción de cristal cúbico ≥ 98 %, excelente dispersabilidad y no afecta el color natural ni el rendimiento de procesamiento del sustrato.

-Pentóxido de antimonio (Sb₂O₅): contenido principal ≥ 99,95%, superficie específica 60-90m ²/g, polvo ultrafino de color amarillo claro, excelente resistencia a los ácidos y estabilidad a la oxidación, adecuado para escenas catalíticas y retardantes de llama de alta gama; Contenido de humedad ≤ 0,1%, mediante proceso de liofilización al vacío, almacenamiento a largo plazo sin riesgo de aglomeración.

-Ventajas comunes: Densidad de 5,2-5,67 g/cm ³, punto de fusión de 656 ℃, estabilidad térmica extremadamente fuerte, capaz de soportar temperaturas de procesamiento superiores a 300 ℃ (estabilidad térmica del pentóxido de antimonio>500 ℃), sin fenómeno de pérdida de peso por descomposición, adecuado para diversos procesos como extrusión, moldeo por inyección y deposición de vapor.

2. Las tecnologías modificadas innovadoras mejoran la sinergia funcional

-Al adoptar el proceso de recubrimiento dual del "agente de acoplamiento de silano-KH560 + modificador compuesto de fósforo y nitrógeno", se forma una capa funcional orgánica mediante enlace químico, que mejora la compatibilidad con polímeros como PP, PVC y resina epoxi en un 60%, resuelve completamente el problema de aglomeración y conserva propiedades mecánicas de más del 95%.

-El efecto sinérgico del trióxido de antimonio con retardantes de llama de nitrógeno fósforo halogenados y libres de halógenos es significativo, generando rápidamente una capa retardante de llama en fase gaseosa de haluro de antimonio y una capa densa de carbono durante la combustión. El nivel de retardante de llama se puede actualizar del nivel V2 al nivel V0, con un índice límite de oxígeno (LOI) ≥ 36 y un nivel de densidad de humo (SDR) ≤ 55, lo que reduce la liberación de humo tóxico.

-El pentóxido de antimonio tiene funciones duales de catálisis y retardo de llama, y ​​se desempeña excelentemente en recubrimientos de alta gama y portadores de catalizadores. Puede mejorar la resistencia a la intemperie y la reactividad del material y cumplir con los requisitos de bajas impurezas de los materiales de embalaje de semiconductores.

Escenarios de aplicación

nuevo sector energético

-Aplicaciones: Aditivos electrolíticos para baterías de estado sólido, materias primas para baterías de antimonio líquido, mazos de cables de alto voltaje para vehículos de nueva energía y carcasas para equipos de almacenamiento de energía.

-Ventajas: el trióxido de antimonio puede optimizar la conductividad iónica de los electrolitos de sulfuro, mientras que el pentóxido de antimonio ayuda a mejorar la estabilidad del ciclo de la batería; El rendimiento retardante de llama cumple con los requisitos de nivel UL 94 V0, adecuado para escenarios de baterías de alta densidad de energía de 650 Wh/L.

-Dosis recomendada: 3% -8% (material de la batería)/6% -12% (mazo de cables retardante de llama)

Campo eléctrico electrónico y semiconductor.

-Aplicaciones: gabinetes de servidores de IA, materiales de embalaje de semiconductores, detectores de infrarrojos (precursor de antimonio), carcasas de equipos de estaciones base 5G

-Ventajas: Pureza de grado electrónico para evitar que las impurezas interfieran con el rendimiento del chip, eficiencia retardante de llama adecuada para requisitos de disipación de calor de chip de alta potencia de 700 W/chip; Como precursor del antimoniuro de indio (InSb) y del antimoniuro de galio (GaSb), apoya la fabricación de sensores infrarrojos.

-Dosis recomendada: 2% -6% (material de embalaje)/5% -10% (carcasa electrónica)

Industria del plástico y el caucho.

-Aplicación: tubo/perfil de PVC, película de PP, carcasa de electrodomésticos de ABS, espuma de PU, compuesto de resina epoxi

-Ventajas: Buena dispersión, no afecta la apariencia del producto ni la fluidez del procesamiento, el sistema retardante de llama colaborativo puede reducir la cantidad de retardante de llama principal agregado en un 25% -35% y reducir los costos generales.

-Dosis recomendada: 4% -15% (sistema sinérgico halogenado)/8% -20% (sistema sinérgico libre de halógenos)

Arquitectura y campos de especialidad de alto nivel.

-Aplicación: Recubrimientos ignífugos, tableros ignífugos, materiales aislantes, esmaltes cerámicos de alta gama, soportes de catalizadores.

-Ventajas: Cumple con las normas de construcción CPR de la UE, con un índice límite de oxígeno (LOI) de ≥ 32 y baja densidad de humo; El pentóxido de antimonio puede mejorar la resistencia a la intemperie y la eficiencia catalítica de los recubrimientos, lo que lo hace adecuado para escenarios catalíticos industriales.

-Dosificación recomendada: 7% -18% (recubrimiento ignífugo)/1% -5% (portador catalizador)

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