Shandong Taixing material avanzado Co., Ltd.
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Hipofosfito de aluminio de grado electrónico
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Hipofosfito de aluminio de grado electrónico

Hipofosfito de aluminio de grado electrónico: núcleo retardante de llama libre de halógenos de alta pureza que brinda a los componentes electrónicos la máxima seguridad. Es un material funcional inorgánico ultrafino de alta pureza diseñado específicamente para las industrias de semiconductores y electrónica de alta gama, adecuado para escenarios de grado electrónico como empaques de semiconductores, sustratos de PCB, carcasas de componentes electrónicos y materiales de baterías de nueva energía que requieren un rendimiento y seguridad eléctricos estrictos.

El hipofosfito de aluminio de grado electrónico desarrollado y producido por Taixing adopta de manera innovadora la tecnología central de purificación de materia prima de grado electrónico y modificación de clasificación de precisión. Utiliza como matriz Al (H ₂ PO ₂) I3 de alta pureza, con una pureza superior al 99,8% y un contenido de fósforo ≥ 42,5%. Combina una retardación de llama eficiente y un excelente rendimiento eléctrico. Con solo un 6% -10% de adición, puede lograr un retardante de llama UL 94 V-0 de 1,6 mm de espesor, resolviendo por completo los problemas de la industria de los retardantes de llama tradicionales "que contaminan los sustratos, interfieren con el rendimiento eléctrico y no pueden cumplir con el grado electrónico". Proporciona una solución de material central segura y compatible para la fabricación de productos electrónicos de alta gama.


Fortalezas centrales

1. Pureza ultraalta y bajas impurezas, adecuado para estrictos requisitos de grado electrónico

-El proceso de purificación definitivo garantiza la pureza: utilizando una combinación de proceso de "recristalización de múltiples etapas+filtración de precisión+desgasificación al vacío", la pureza del producto es ≥ 99,8%, muy superior al estándar de grado industrial 99%, eliminando eficazmente impurezas nocivas como iones de cloruro (≤ 0,001%) y sulfatos (≤ 0,002%), evitando la migración de impurezas que pueden causar cortocircuitos en los componentes electrónicos o degradación del rendimiento.

-Residuos de metales pesados ​​ultrabajos: mediante la detección ICP-MS, el contenido total de metales pesados ​​como plomo, mercurio, cadmio, etc. es ≤ 0,5 ppm, muy por debajo de los requisitos límite de RoHS 2.0. No hay residuos de ftalatos (DEHP/BBP, etc.), cumpliendo plenamente con los estándares de "baja contaminación, alta limpieza" para materiales de grado electrónico.

-El alto contenido de fósforo potencia un retardo de llama eficiente: con un contenido de fósforo de ≥ 42,5%, la eficiencia de retardo de llama aumenta en un 40% en comparación con el hipofosfito de aluminio ordinario. Después de combinar con sinergistas como MCA y APP, agregar un 8% al sustrato de PCB puede lograr un retardo de llama de nivel V-0 sin afectar las propiedades dieléctricas del sustrato.

2. El excelente rendimiento eléctrico garantiza el funcionamiento estable de los dispositivos electrónicos.

-Baja pérdida dieléctrica y alto aislamiento: constante dieléctrica (1MHz) ≤ 3,8, factor de pérdida dieléctrica ≤ 0,005, resistividad de volumen ≥ 10 ¹⁴Ω· cm. La adición no cambia significativamente las propiedades eléctricas del sustrato, lo que garantiza la estabilidad de la transmisión de señales del embalaje de semiconductores y de los equipos de comunicación de alta frecuencia.

-Excelentes características anti-migración de iones: después de ser colocado en un ambiente húmedo y caliente de 85 ℃/85% RH durante 1000 horas, no hay un fenómeno obvio de migración de iones, lo que evita que los componentes electrónicos experimenten "fallas de migración eléctrica" ​​y cumplen con los requisitos de servicio a largo plazo de baterías de nueva energía, electrónica automotriz y otros dispositivos.

-Buena no corrosividad y compatibilidad: el valor de pH es estable entre 3,5 y 4,5 y no tiene efectos corrosivos en contactos metálicos ni placas de circuito. Tiene una excelente compatibilidad con sustratos de grado electrónico como resina epoxi, PA, PBT, etc., y no causa degradación del sustrato ni deterioro del rendimiento.


Escenarios de aplicación

Campo de semiconductores y embalaje electrónico.

-Aplicaciones: materiales de embalaje de chips semiconductores, adhesivos para encapsular componentes electrónicos, carcasas de circuitos integrados.

-Como relleno de bajo dieléctrico para reemplazar algunos micropolvos de silicio, la cantidad agregada es del 15 al 30 %. Mientras mantiene la fluidez, reduce la constante dieléctrica entre 0,2 y 0,3 y mejora el retardo de llama a UL94 V-0. Se utiliza para empaquetar CPU, GPU y chips de almacenamiento.


Campo de placa de circuito impreso (PCB)

-Aplicaciones: materiales de sustrato de PCB, laminados revestidos de cobre ignífugos, carcasas de placas de circuito

-Laminado revestido de cobre (CCL) de baja pérdida: compuesto con resinas de alta frecuencia como PTFE, PPO, éster de cianato, etc., con una adición de E-AHP100 del 20-40%, logrando Dk 3.2-3.8 y Df<0.005, cumpliendo con los requisitos de placas de antena de onda milimétrica 5G y tableros traseros de servidores de alta velocidad.

Electronic Grade Aluminum Hypophosphite

Si está buscando fosfato de aluminio de grado electrónico, retardantes de llama para componentes electrónicos, retardantes de llama para sustratos de PCB y retardantes de llama para baterías de nueva energía, Taixing será su mejor socio y le ofreceremos la cooperación con el precio más bajo.




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